放松了一天。
黃明哲年初四就接到馬知力的報告，他連忙趕過去材料研究所。
“社長，你終于來了。”馬知力興奮的邊走邊說。
看著馬知力等人那滿眼血絲、頭發亂糟糟的樣子，就知道他們這些天一直在測試光敏材料規律模型。
“老馬要勞逸結合，辦公室談吧！”黃明哲向辦公室去。
“多謝社長關心，我一時間太興奮而已。”
辦公室里面，在場只有馬知力和四個研究員，其他人都還沒有回來上班。
“都坐。”黃明哲坐下之后：“模型計算出來的出材效率是8.6%左右，而出材合格率是1.7%左右。”
“是的，社長。”馬知力興奮的說道：“社長，你研發的計算模型太厲害了，簡直是材料研發的神器。”
“宇宙萬物都在數學之中，沒有什么不可以被計算。”黃明哲微笑著說道。
如果之前有人在馬知力等人面前這樣說，他們絕對會嗤之以鼻，但是現在他們已經有些相信了。
“社長，你這個模型要是發出去，估計可以引發材料學革命。”馬知力贊嘆道。
黃明哲搖搖頭說道：“這種國際精神要不得，這個模型我們內部自己用就可以了。”
“社長說得對。”
“我看了你們的報告，現在我給你們下一個任務。”
“社長請吩咐。”馬知力連忙拿出筆記本說道。
“研發一種X射線高敏膠。”
“X射線高敏膠?社長是想研發光刻膠吧！”馬知力一聽便知道黃明哲的打算。
黃明哲點了點頭：“沒有錯，就是X射線級別的光刻膠，我提幾個要求，波長最好在3～8納米之間；X射線敏感度要足夠高，最好可以在幾秒鐘之內徹底溶解；另外對于X射線的能量級別，最好不需要高能級就可以實現快速光分解。”
“社長，如果我們研發X射線光刻膠，這個可是沒有客戶的。”馬知力提醒道。
目前市面上的光刻機的光源，一般分為紫外光（UV）、深紫外光（DUV）、極紫外光（EUV），其中最先進的光刻機，就是尼德蘭的阿斯麥公司生產的極紫外光（EUV），波長為13.4納米。
但是其實在上個世紀八十年代，光刻機行業之中，還有除了極紫外光（EUV）路線，還存在著另一個路線——X射線光刻機。
為什么波長在10納米以下的X射線光刻機，最后被極紫外光（EUV）淘汰?
原因有兩個，一是效率問題，X射線照射下光刻膠的光刻速度比較慢；二是精確度問題，為什么說波長10納米以下的X射線，光刻精度差?因為掩模做不到10納米以下。
掩模就是電路圖的母板，為什么極紫外光（EUV）的精度高，原因在于紫外光可以使用凸透鏡縮小從掩模過來的光線，而所有人都知道X射線的穿透力非常強，凸透鏡根本無法聚焦。
所以X射線光刻機被淘汰了。
市面上沒有X射線光刻機，也就意味著沒有客戶。
“這個問題不是問題。”
“社長沒有客戶的話……”
黃明哲打斷了馬知力：“知道X射線光刻機為什么被淘汰嗎?”
馬知力點了點頭。
“效率問題在于光刻膠的光敏性，如果我們研發一種可以在幾秒鐘內完成光刻的X射線光刻膠，那效率還是問題嗎?”黃明哲反問道。