像日后光刻技術那一大堆高級技術在這個年代都不用考慮，根本用不上，也沒條件用上。
搞個10微米~100微米的光刻，就想著把浸潤光刻、多重曝光、euv光源這些弄上來無疑是吃飽了撐著了。
且不說這些美滋滋的配套廠所，高振東自己，正在和廠里的一堆八級工研究工件臺的事情，雖然不搞多重曝光，但是套刻還是需要的，工件臺的定位精度還是要考慮。
套刻，就是把多個圖形分多次刻到同一工件上，形成一個完整的圖形。
如果只是刻一次，那倒不需要管套刻精度，只要保證光的投射范圍都在晶圓上以及光投影精度即可，可是在集成電路工藝里，是要分很多次光刻，來形成不同結構，而且這些結構之間又有電路連接，所以套刻精度還是要保證的。
至于雙工件臺，就先扔一邊了，一個工件臺還沒搞利索呢，想那么多是給自己找麻煩。
“高總，你這個東西的定位精度要半絲？”一群老八級工有點嘬牙。
1絲，從機加工的角度，等于10微米，半絲，5微米。
高振東點點頭：“嗯，先不考慮移動定位精度，就考慮兩個工件固定時定位的相對精度就可以。”
如果微縮投影還沒搞通的話，那移動定位精度就意義不大，因為不需要在晶圓上一個芯片一個芯片的刻，而是一次性投影出整個晶圓的圖像，這種情況下，哪怕套刻，主要考慮的也就是模版、晶圓固定時的相對位置精度了。
之所以一開始都是搞的接觸式或者接近式光刻機，這就是原因，技術簡單得多啊。
幾位老師傅，包括易中海在內，放下了大半的心，這個就好辦多了。
高振東把整個光刻機機械部分的要求發給他們，并給他們一一解釋，光刻機可不只前面那么一點東西，比如光刻膠的涂覆、無塵環境的生成等等
其實早期的光刻機，看起來像個化學實驗室的通風櫥柜似的，而且還帶顯微鏡，用于人工調整觀察，又像一個生物上用的玩意，反正就是不像個工業上用的機器，完全沒有后來看起來那么高大上。
聽了高振東的要求，所有的老師傅覺得這還是有門兒的，問題不大，領了任務就去工作了，這些老師傅，有的是三分廠的，有的是從其他車間臨時借來幫忙的，不管哪兒來的，反正這段時間都要在三分廠的研究場地里干活了。
至于其他部分工藝，都交給1274廠了，他們那邊條件成熟，好歹還是專業半導體廠嘛。
與此同時，保衛處長正在和劉海中談話，劉海中雖然也是老鍛工了，可是離八級還有距離，也夠不上摻合三分廠的特殊項目，至于生產，他不是三分廠的人就更說不上了。
保衛處長找他談話，是有好事情找他，至少在他看來是這樣。
“劉師傅，你是廠里的老同志，從你一貫表現來看，對于我們的保衛和安全工作，是非常上心、非常積極的”
保衛處張處長上來就先把劉海中猛夸了一通，聽得劉海中是無比的舒坦，心思禁不住有些活泛起來。
老劉我，這是要時來運轉了？領導終于看到我的努力了？愿意給我機會，給我加擔子了？